众所周知，目前全球仅有一家厂商，能够生产EUV光刻机，它就是荷兰的ASML。而之所以全球仅此一家，这是因为ASML将很多关键的厂商捆绑在了一起，比如德国光学公司蔡司（Zeiss），再比如美国的Cymer，再比如德国的通快集团（TRUMPF）等
近日，中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心有机纳米光子学实验室研究员郑美玲团队在跨尺度微纳拓扑结构制备及细胞球浸润性调控方面取得了新进展。
中科院理化所仿生智能界面科学中心有机纳米光子学实验室郑美玲研究员团队近日在跨尺度微纳拓扑结构制备及细胞球浸润性调控方面取得了新进展。该团队提出采用飞秒激光无掩膜投影光刻技术（MOPL）制备大面积兼具高精度的微盘阵列拓扑结构以研究细胞球的浸润性。
随着组织工程领域的发展，生物材料界面与细胞的相互作用及物理机制成为研究热点。生物界面的拓扑形貌可以有效调控细胞行为并影响细胞功能。而体内的一些生理过程如胚胎发育、免疫应答和组织更新与重塑等往往涉及多细胞的集体行为
预计未来一段时间，在技术创新推动下，我国步进式光刻机行业发展速度将进一步加快。 光刻机一般分为扫描式光刻机和步进式光刻机两种，步进式光刻机为市场主流产品。步进式光刻机指把投影掩模版上的图形与涂胶硅片进行对准，而后从一点到另一点进行逐场曝光操作的光刻机
德国研究人员开发出了一种紧凑的极紫外（EUV）激光模块——可以用来产生特殊的EUV光，它不仅打破了以往EUV光实验只能在昂贵的大型研究设施中进行的限制，还带来了更高的成本效益。
美国研究小组通过发射飞秒激光并使之穿过充满气体的波导，成功地生成了非常紧凑、功率强大的极紫外辐射（EUV）光束。其峰值功率接近兆瓦，产生纳米级的光波，但整个设备可以放在一个中等大小的桌子上。
知情郎·眼｜科技那些事儿半导体领域作为我国科技发展的短板，在这个领域一直受限于人，但中企们也没有选择坐以待毙，大力推动自研芯片和自研半导体设备的发展，进一步实现自主可控。如今哈工大公布新成果，光刻机关
通过使用钛:蓝宝石（Ti：Sapphire）激光和中红外自由电子激光来构造硅，日本科学家们已经证明了激光诱导的周期性表面结构(LIPSS)是如何随激光性质而发生变化的。
近日，武汉宇微光学软件有限公司（以下简称“宇微光学”）宣布完成A轮数千万融资，致道资本联合武汉光谷产业、烽火创投三家机构共同参与。本轮融资完成后，宇微光学将进一步加强各核心模块的集成化与软件产品化，同时对各项软件参数进行标定、测试与验证
6 月 30 日消息，据 BusinessKorea 报道，三星电子副董事长李在镕于 6 月中旬结束了对欧洲的商务访问，此行他与 ASML 公司就引进该荷兰半导体设备制造商的下一代极紫外（EUV）光刻设备进行了会谈。
ASML光刻机就目前来看，其拥有着芯片研究部最核心的激光设备——光刻机，并且，对于EUV后台零配件早已形成一套标准供应链闭环，这也是ASML公司全球最大半导体设备制造商原因之一。
近期，高端光学装备及机器视觉光源厂商科视光学完成了近4亿元C轮融资，本轮融资由中芯聚源、民生股权基金、洪泰基金联合领投，IM体育产业方鑫睿资本、分享等跟投。云岫资本担任本轮融资独家财务顾问。科视光
最新报告显示，激光材料市场在2021年预计为18亿美元，到2028年有望达到约20亿美元的估值，2022-2028年间以5.8%的复合年增长率发展。激光材料市场的增长是由光刻技术的激增需求、各种终端垂直领域激光的不断增长以及军事工业的增长所驱动的。
项目概况激光直写无掩模光刻机曝光机采购 招标项目的潜在投标人应在线上获取获取招标文件，并于2022年05月10日 09点30分（北京时间）前递交投标文件。一、项目基本情况项目编号：ZZ0023－G22
北京市公共资源交易服务平台日前发布《投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目洁净工程中标候选人公示》，四联智能技术股份有限公司等三家企业位列中标候选人。公开资料显示，该生产基地建设单位为北京国望光
俄乌开火引发全球关注，给芯片行业带来了巨大的风险，并加剧了当前供应链的紧张局面。所谓牵一发而动全身，你可能想不到的是，这也与激光行业产生了一定的关联：这种用于光刻机的光刻气体，就是大部分主流光刻机“光源”不可或缺的一种重要原材料。
德国通快集团在不久前完成了第200台EUV光刻机光源的发货。通快预计，在2022财年EUV业务销售额将大幅增加到6亿欧元。
1月19日，全球光刻机龙头ASML 公布了其2021年第四季度和2021全年的业绩。第四季度净销售额为50亿欧元，毛利率为54．2％，净收入为18亿欧元；2021年净销售额为186亿欧元，毛利率为52．7％，净收入为59亿欧元
日立科学仪器宣布开发其电子束区域（Electron Beam Area）检测系统。该公司正逐步将EUV应用于5nm节点器件的量产和3nm节点器件的开发。
利用激光蚀刻玻璃制成的光盘，可以使得存储密度相比蓝光光盘提升 10000倍以上。
第三季度净预订量为62亿欧元，其中包括22亿欧元（相当于人民币164亿元）的 EUV 销售额。
茂莱光学主要产品覆盖深紫外DUV、可见光到远红外全谱段，主要包括精密光学器件、高端光学镜头和先进光学系统三大类
6月21日，浙江京华激光科技股份有限公司突然停牌，6月22日复牌后低开低走，最终报收14.73元，跌幅达6.06％。2020年6月，京华激光宣布已经从子公司美国菲涅尔签约引进两台光刻机。
2020年，ASML设备销售额为103亿欧元，其中EUV光刻系统销售再创新高，全年销售31台，销售额达45亿欧元，同比增长60％，占设备销售额的43％。通快是ASML EUV光刻机光源的独门供应商，有关EUV应用的销售额同比增长了近20％，达4.6亿欧元。
?世界上最大的图案化半导体晶片的光刻设备供应商ASML公布了创纪录的近140亿欧元的年度销售额，比2019年的数字增长了18％。随着客户继续，预计明年销售额将进一步增长。
德国光学组件和传感器系统供应商Jenoptik斥资千万欧元，IM体育了一种新的电子束（E－Beam）光刻系统。该系统是开发和生产下一代超精密传感器的核心部件，这对进一步开发DUV和在半导体生产过程中建立高精度EUV晶片曝光至关重要。
据外媒报道，三星电子副董事长李在镕于日前前往荷兰会见阿斯麦公司（ASML）的高管，以探讨在开发下一代半导体技术方面的合作方式。这并非李在镕首次与ASML高管见面交谈，最早一次双方交谈可追溯至2016年
日前，德国通快集团发布了2019／20财年（截至2020年6月30日）业务报告。报告显示，通快集团的营收下降8％，至35亿欧元（2018／19财年：38亿欧元）。订单总额下降11％至33亿欧元（2018／ 2019财政年度：37亿欧元）
前言常规紫外投影光刻机需要先制作掩模板，耗材成本高、制备周期长，很难满足材料器件实验室对灵活性和实验进度的要求。近年发展起来的无掩模光刻技术突破这一技术限制，实现任意形状编程、全自动高精度大尺度拼接的无掩模光刻，随时将您的设计转化为实际的成品，大幅度减少研制测试周期，强有力地助攻微纳器件制备工作
通快举办了一场精彩的新品发布会，包括碟片激光器、纳秒激光器、飞秒激光器以及新一代激光三维机床等在内的15项新产品完成“中国首发”。发布会结束后，OFweek激光网对通快中国激光事业部总经理黄哲进行了采访。
近日，荷兰光刻机巨头ASML宣布计划收购光学公司Berliner Glas，以巩固关键部件的供应。ASML于当地时间7月15日刚公布第二季度业绩，相比第一季，ASML第二季度业绩显著提升，销售额相较第一季度强增长35％，达到33亿元，毛利率达到48．2％
6月16日，京华激光在互动平台回答者提问时表示，截止目前，公司已经从子公司美国菲涅尔制版科技公司签约引进两台光刻机，其中一台已经投入运行，公司控股公司美国菲涅尔制版科技公司有光刻机的研发与销售。
根据光刻机所用光源改进和工艺创新，光刻机经历了 5 代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。
据媒体报道，上海微电子装备（集团）股份有限公司披露，将在2021－2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂，但是差距已经大大缩小，毕竟在此之前国产光刻机还是90nm。
导体光刻用光源的制造商Gigaphoton宣布，公司已经开始发货新的KrF激光器“ G300K”，作为其GIGANEX系列的一部分，该系列使用半导体制造光刻光源。
目前最先进的第五代光刻机采用EUV光刻技术，以波长为10－14nm的极紫外光作为光源。ASML生产的EUV光刻机光源由激光行业的巨头通快集团提供。通快集团为ASML提供用于极紫外光刻的特殊激光器是通快业绩增长的关键驱动力，18/19财年该业务的收入从2.6亿欧元增长到3.9亿欧元，增长了48％。